Ionenquellen
Anode Layer Ionenquellen
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Lineare Ionenquellen erzeugen breite Ionenstrahlen mit hoher Homogenität entlang ihrer Länge. Diese Anode Layer Ionenquellen sind sehr zuverlässige und robuste Geräte, die mit einer Vielzahl von Gasen und Gasgemischen betrieben werden können. Sie benötigen keinen zusätzlichen Neutralisator für die Ladungskompensation und können daher mit chemisch aktiven Gasen (Sauerstoff, Luft, Halogene usw.) uneingeschränkt arbeiten. Die Elektroden der Quelle haben eine fast unbegrenzte Lebensdauer mit Sauerstoff gearbeitetet wird. Für viele Anwendungen kann Luft anstelle von Sauerstoff verwendet werden.
Montagekonfigurationen
Alle linearen Ionenquellen sind für interne und externe Montagekonfigurationen verfügbar. Intern montierte Quellen umfassen eine einzelne KF25-Durchführung. Eine Kippkopfoption mit variabler Eindringtiefe, z.B. für die Ionenunterstützung bei konfokalen Sputteranwendungen können für die kleineren L125- und L145-Quellen bestellt werden.
Netzteil-Paket
Neben den invertierten Magnetron-Ionenquellen bieten wir dedizierte spannungs- oder stromgesteuerte Netzteile an. Bei Verwendung der integrierten Gassteuerungsfunktion können sowohl der Ionenstrahlstrom als auch die Anodenspannung konstant gehalten werden.
Rundquelle D52
Neben den linearen Quellen bietet die kreisförmige Ionenquelle D52 ein röhrenförmiges Strahlprofil mit 22 mm Durchmesser und geringer Divergenz. Daher ist sie ideal für das Ionenstrahl-Sputtern oder Ätzen auf kleinen Zielen oder Substraten bei gleichzeitig hohen Ionenenergien mit einem Ionenstrahlstrom von bis zu 150 mA.
Eigenschaften
- Kompaktes Lineares Design
- Versionen mit internen oder Flansch Montage
- Lange Elektrodenlebenszeit
- Selbstneutralisierender Ionenstrahl
- Hohe Ionendichte
- Kompatibel mit einer Vielzahl von Gasen
- Breiter Druckbereich bis 1E-1 mbar
Typische Anwendungen der Anode Layer Quellen sind unter anderem
- Ionenstrahl Reinigung und Ätzen
- Ionenstrahl unterstützte Beschichtung bei thermischen & Elektronenstrahl Verdampfung (IBAD)
- Oberflächenbehandlung und -aktivierung (SM)
- Ionenstrahl Sputtern (IBS)
- PECVD & DLC
D52 | L125 | L145 | L400 | L600 | L800 | |
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Versorgungsspannung | 500 .. 5000 V | |||||
Mittl. Ionenenergie | Ca. 1/2 der Versorgungsspannung | |||||
Max. Strahlstrom | 150 mA | 300 mA | 350 mA | 1000 mA | 1500 mA | 2000 mA |
Gaseffizienz | 8 mA/sccm | 10 mA/sccm | ||||
Strahlprofil | Röhre | Hohles Rechteck | ||||
Strahlgröße | 22 mm dia | 100 x 42 mm | 120 x 42 mm | 375 x 42 mm | 575 x 42 mm | 775 x 42 mm |
Interne Quellenlänge | 52 mm dia | 126 mm | 146 mm | 396 mm | 600 mm | 800 mm |
Externer Flansch | ISO63K | ISO160K | ISO160K | 480 x 186 mm | 684 x 186 mm | 884 x 186 mm |
Strahlwinkel | 2° | |||||
Druck | 1E-5 bis 1E-1 | |||||
Arbeitsgas | Ar, H2, He, Xe, O2, N2, CxHy, CO2, CxFy |